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        當前位置:首頁產品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD金屬鍍膜磁控濺射薄膜監(jiān)測

        金屬鍍膜磁控濺射薄膜監(jiān)測

        產品簡介

        金屬鍍膜磁控濺射薄膜監(jiān)測,7寸人機界面,自動手動模式切換控制,最大功率1000w直流磁控濺射

        產品型號:KT-Z1650PVD
        更新時間:2024-03-27
        廠商性質:生產廠家
        訪問量:1168
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        品牌鄭科探濺射氣體根據(jù)需求通氣
        樣品臺尺寸50mm控制方式觸摸屏智能控制
        樣品倉尺寸φ160x160mm靶材尺寸50mm
        靶材材質金 鉑 銅 銀 等價格區(qū)間面議
        產地類別國產應用領域綜合

        金屬鍍膜磁控濺射薄膜監(jiān)測,7寸人機界面,自動手動模式切換控制,最大功率1000w直流磁控濺射

        單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質及OLED等

        單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。

        所配電源為1000W大功率直流電源,可用于高能量的金屬濺射鍍膜,根據(jù)實驗需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。

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        金屬鍍膜磁控濺射薄膜監(jiān)測技術參數(shù);

        控制方式

        7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

        濺射電源

        直流濺射電源

        鍍膜功能

        0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

        功率

        ≤1000W

        輸出電壓電流

        電壓≤1000V  電流≤1A

        真空

        機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

        濺射真空

        ≤30Pa

        擋板類型

        電控

        真空腔室

        不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

        樣品臺

        可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

        樣品臺轉速

        8轉/分鐘

        樣品濺射源調節(jié)距離

        40-105mm

        真空測量

        皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

        預留真空接口

        KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口






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